ASML: ๋ฐ๋์ฒด ์ฐ์ ์ ๋ฏธ๋๋ฅผ ์ด๋๋ ํ์ ์ ์ ๋์ฃผ์์ต๊ทผ ๋ช ๋ ๋์ ASML์ ๋ฐ๋์ฒด ์ฐ์ ์์ ๊ฐ์ฅ ์ฃผ๋ชฉ๋ฐ๋ ๊ธฐ์ ์ค ํ๋๋ก ๋ ์ฌ๋์ต๋๋ค. ์ด ํ์ฌ๋ ๊ทน์์ธ์ (EUV) ๋ฆฌ์๊ทธ๋ํผ ๊ธฐ์ ์ ํตํด ๋ฐ๋์ฒด ์ ์กฐ์ ํ์ ์ ์ด๋๊ณ ์์ผ๋ฉฐ, ์ด๋ฌํ ๊ธฐ์ ์ ๋ ์๊ณ ๋น ๋ฅธ ์นฉ์ ์์ฐํ ์ ์๋๋ก ๋๊ณ ์์ต๋๋ค. ์ด ๊ธ์์๋ ASML์ ๊ธฐ์ , ์์ฅ ๋ํฅ, ๊ทธ๋ฆฌ๊ณ ๋ฏธ๋ ์ ๋ง์ ๋ํด ์์ธํ ์์๋ณด๊ฒ ์ต๋๋ค. ๐ปASML์ ์ญ์ฌ์ ๋ฐ์ ASML(Advanced Semiconductor Materials Lithography)์ 1984๋ ๋ค๋๋๋์์ ์ค๋ฆฝ๋์์ต๋๋ค. ์ด๊ธฐ์๋ ๋ฐ๋์ฒด ์ ์กฐ์ ํ์ํ ๋ฆฌ์๊ทธ๋ํผ ์ฅ๋น๋ฅผ ๊ฐ๋ฐํ๋ ํ์ฌ๋ก ์ถ๋ฐํ์ต๋๋ค. 1990๋ ๋ ์ค๋ฐ, ASML์ ์์ฌ์ ๊ธฐ์ ๋ ฅ์ ๋ฐํ์ผ๋ก ์ฒซ ๋ฒ์งธ EUV ๋ฆฌ์๊ทธ๋ํผ ๊ธฐ..